Carré

dr.ir. J.M. Sturm (Marko)

Universitair docent
TNW-NEM-XUV
Carré C2019
j.m.sturm@utwente.nl
+31534891185
Visitekaartje

Ik heb technische natuurkunde gestudeerd aan de Technische Universiteit Eindhoven, gevolgd door een promotie bij de Universiteit Twente in 2006. Na 2 jaar als post-doc bij het Fritz-Haber-Institut der Max-Planck-Gesellschaft in Berlijn, kwam ik terug naar Nederland om bij het FOM-Instituut voor Plasmafysica Rijnhuizen in Nieuwegein te werken als onderzoeker. Sinds 2014, toen de huidige XUV-groep verhuisde van Nieuwegein naar de Universiteit Twente, ben ik lid van de wetenschappelijke staf van XUV.

In mijn studie en werk heb ik een sterke expertise ontwikkeld op het gebied van analyse van oppervlakken, depositie van dunne films en oppervlaktechemie.

Expertises

  • Chemistry

    • Surface
    • Liquid Film
    • Energy
    • Ion
    • Scattering

  • Material Science

    • Thin Films
    • Material

  • Physics

    • Ion Scattering

Organisaties

Mijn onderzoek richt zich op de groei van dunne films, met name voor toepassingen voor extreem-ultraviolet optische coatings. Daarnaast bestudeer ik de interactie van plasma, ionen en radicalen met oppervlakken van dunne films.

Publicaties

2024

Work-Function-Dependent Reduction of Transition Metal Nitrides in Hydrogen Environments (2024)The journal of physical chemistry letters, 15(46), 11462-11467. Rehman, A., van de Kruijs, R. W. E., van den Beld, W. T. E., Sturm, J. M. & Ackermann, M.https://doi.org/10.1021/acs.jpclett.4c02259Chemically Stable Group IV–V Transition Metal Carbide Thin Films in Hydrogen Radical Environments (2024)The Journal of physical chemistry C, 128(43), 18524–18533. Rehman, A., van de Kruijs, R. W. E., van den Beld, W. T. E., Sturm, J. M. & Ackermann, M.https://doi.org/10.1021/acs.jpcc.4c04822Examining the influence of W thickness on the Si-on-W Interface: A comparative metrology analysis (2024)Applied surface science, 670. Article 160615. Valpreda, A., Sturm, J. M., Yakshin, A. E., Woitok, J. F., Lokhorst, H. W., Phadke, P. & Ackermann, M.https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.160615TEM observations of plasma - thin film interaction (2024)[Contribution to conference › Poster] MESA+ Day 2024. Gerlach, L., Shafikov, A., Sturm, J. M. & Ackermann, M.Publisher's Note: "Growth and optical performance of short-period W/Al and polished W/Si/Al/Si multilayers" (vol 134, 155301, 2023) (2024)Journal of Applied Physics, 135(14). Article 149901. Ijpes, D., Yakshin, A. E., Sturm, J. M. & Ackermann, M.https://doi.org/10.1063/5.0209743Dual Modulation Scanning Tunneling Microscopy: a Quest for Subnanometer Chemical Contrast on Thin Films (2024)[Thesis › PhD Thesis - Research UT, graduation UT]. University of Twente. Oldenkotte, V. J. S.https://doi.org/10.3990/1.9789036559416The effect of W thickness on the interface Si-on-W, a Low-Energy Ion Scattering study (2024)[Contribution to conference › Poster] NWO Physics 2024. Valpreda, A., Sturm, J. M., Yakshin, A. E. & Ackermann, M.

2023

Interface smoothing in short-period W/B<sub>4</sub>C multilayers using neon ion beam polishing (2023)Journal of Applied Physics, 134(24). Article 245303. Ijpes, D., Yakshin, A. E., Sturm, J. M. & Ackermann, M. D.https://doi.org/10.1063/5.0175793Interface smoothing in short-period W/B4C multilayers using neon ion beam polishing (2023)Journal of Applied Physics, 134(24). Article 245303. IJpes, D., Yakshin, A., Sturm, J. M. & Ackermann, M.https://doi.org/10.1063/5.0175793Role of Excess Bi on the Properties and Performance of BiFeO3 Thin-Film Photocathodes (2023)ACS Applied Energy Materials, 6(24), 12237−12248. Prasad, N. P., Rohnke, M., Verheijen, M. A., Sturm, J. M., Hofmann, J. P., Hensen, E. J. M. & Bieberle-Hütter, A.https://doi.org/10.1021/acsaem.3c01926

Onderzoeksprofielen

Ik heb onderwijstaken in de volgende vakken:

Opticapracticum van module 6 (bachelor TN)

Surfaces and Thin Layers (master TN)

Nanolab practicum (master NT)

In onze onderzoeksgroep hebben we afstudeeropdrachten beschikbaar voor bachelor- en masterstudenten TN en voor masterstudenten NT.

Verbonden aan opleidingen

Vakken collegejaar 2024/2025

Vakken in het huidig collegejaar worden toegevoegd op het moment dat zij definitief zijn in het Osiris systeem. Daarom kan het zijn dat de lijst nog niet compleet is voor het gehele collegejaar.

Vakken collegejaar 2023/2024

Adres

Universiteit Twente

Carré (gebouwnr. 15), kamer C2019
Hallenweg 23
7522 NH Enschede

Navigeer naar locatie

Organisaties

Scan de QR-code of
Download vCard